11 Ocak 2021 tarihine kadar Patent Kanunun Uygulama Kurallarının (Görüşler için Taslak) Revize Edilmesi Önerileri hakkında Kamu Görüşleri aranmaktadır.
27 Kasım 2020 tarihinde, Patent Yasasındaki değişikliğe uymak için, Çin Ulusal Fikri Mülkiyet İdaresi ("CNIPA"), Patent Yasasının Uygulama Kurallarının Revize Edilmesi için önerilen Önerileri yayınladı (Görüşler için Taslak) (" Yorum Taslağı ”, 专利 法 实施 细则 修改 建议 (征求意见稿)) halktan yorum istemek için. Halka açık yorumlar için son tarih 11 Ocak 2021'dir.
Görüş Taslağının revizyonu esas olarak iki yönü kapsamaktadır: birincisi, Patent Kanunundaki revizyonlara uyan hükümlerin eklenmesi ve ikinci olarak, pratik ihtiyaçlara bağlı olarak ilgili hükümlerin iyileştirilmesi.
Patent Kanununda yapılan revizyonlar temel olarak şunları içerir:
(1) Patent süresinin uzatılmasına ilişkin ilgili hükümleri, özellikle yetkili patentlerin süresinin uzatılmasını talep etme süresinin, başvuru sahibinin neden olduğu makul olmayan gecikme durumlarının, başvuru gerekliliklerinin, ilaç kapsamının ve ilaç patentinin koruma kapsamının revize edilmesi süre uzatma vb .;
(2) kısmen veya tamamen tasarımın yerel önceliği dahil olmak üzere tasarımlara ilişkin ilgili hükümleri revize etmek;
(3) Lisans beyannamesinin açılması için başvuru usulleri ve içerik şartları, açılış lisans beyannamesinin ilan edilmeyeceği haller, açılış lisans beyannamesinin geri çekilmesi ve yürürlüğe girmesi usulleri dahil olmak üzere açık ruhsatla ilgili hükümleri revize etmek, açılış ruhsatının verilmesinden sonra dosyalama prosedürü ve kanıt materyalleri vb .;
(4) ulusal düzeyde önemli etkiye sahip patent ihlali konusundaki ihtilafların Devlet Konseyi bünyesindeki patent idare departmanı tarafından ele alınacağı koşulların açıklığa kavuşturulması gibi, idari korumaya ilişkin ilgili hükümleri revize etmek; ve
(5) Patent Yeniden İnceleme Kurulunun ifadelerinde yapılan değişiklikler gibi kurumsal reforma ilişkin ilgili hükümleri revize etmek.
Pratik ihtiyaçlara tabi revizyonlar temel olarak şunları içerir:
(1) referans yoluyla katılım ve rüçhan hakkının geri alınması gibi patent işbirliği anlaşmalarıyla bağlantılı ilgili hükümleri artırmak;
(2) Çin'in katılmayı teklif ettiği Lahey Anlaşması ile ilgili tasarım patentleri için uluslararası başvurunun tanımının açıklığa kavuşturulması dahil olmak üzere tasarım patentlerinin ilgili hükümlerinin iyileştirilmesi ve uluslararası patentin başvuru tarihi ve geçerlilik tarihinin belirlenmesi tasarım patentleri vb. için başvuru;
(3) salgın hastalıklar ve diğer acil durumlarla başa çıkma hükümlerini iyileştirmek ve (varsa) zaman sınırını resen uzatmak;
(4) Patent incelemesinde kalitenin ve etkinliğin artırılmasına, patentin yeniden incelenmesi ve hükümsüzlüğüne ilişkin durumlarda re'sen inceleme, iyi niyet ilkesine aykırı inceleme ve reddedilmeyen kararlar için çarelere ilişkin hükümlerin artırılması;
(5) Patent hakkı değerlendirme raporlarının açıklığa kavuşturulması, zorunlu emanet istisnaları, vaka bazında başvurular için usullerin basitleştirilmesi gibi “idarenin düzene sokulması, yetkilerin devredilmesi ve düzenleme ve hizmetlerin iyileştirilmesi” ile ilgili şartların uygulanmasında ilgili hükümlerin artırılması, ve patent bilgi hizmetleri vb .;
(6) elektronik başvuru yöntemleri dahil olmak üzere, patent inceleme süreciyle ilgili hükümleri optimize etmek, başvuru belgeleri için gereklilikleri iyileştirmek ve basitleştirmek, vb; ve
(7) patent ihtilaflarına ilişkin idari arabuluculuk anlaşmalarının adli doğrulaması gibi idari korumaya ilişkin ilgili hükümleri artırmak ve optimize etmek.
Katkıda bulunanlar: Yanru Chen
